Установка экспонирования SFB-520 разработана фирмой SUN-FUBAO ELECTRONICS CO
для двухстороннего экспонирования жидкой и сухой паяльной маски печатных плат,
а также для экспонирования всех типов сухих и мокрых фоторезистов.
Система экспонирования имеет две вакуумные загрузочные рамы типа «майлар-стекло».
Для обеспечения плотного контакта между фотошаблоном и заготовкой применяется
откачка воздуха внутри загрузочной рамы встроенным вакуумным насосом.
В установке используются две ртутные дуговые лампы по 5 кВт.
Охлаждение ламп осуществляется встроенной системой водяного охлаждения,
имеющей собственную емкость, циркуляционный насос и теплообменник для подачи
внешней охлаждающей воды (водопроводная вода, либо дополнительный внешний чиллер).
Охлаждение рабочей зоны рам экспонирования осуществляется встроенной
холодильной системой рефрижераторного типа.
Система управления процессом экспонирования реализована на современной
элементной базе, имеет PLC-контроллер, а также ЖК дисплей с сенсорным управлением.
Основные технические характеристики
| Область экспонирования, мм |
870 х 660 |
| Количество загрузочных рам |
2 |
| Мощность экспонирования, кВт |
3,5 |
| Рабочая длина волны УФ ламп, нм |
300 - 425 |
| Тип охлаждения ламп |
Водяное |
| Габаритные размеры, мм |
1400 х 2100 х 1800 |
| Вес установки, кг |
900 |
| Электропитание |
3-фазное 380 В, 50 Гц, 60 А |
==============================================================
Настольная установка экспонирования Eco-Lux203D
Настольная установка экспонирования Eco-Lux предназначена для двухстороннего контактного
переноса рисунка печатной платы с фотошаблона на заготовку, на которую предварительно нанесен
фоторезист . Для обеспечения плотного контакта между фотошаблоном и фоторезистом применяется
откачка воздуха внутри загрузочной рамы.
Основные технические характеристики
| Размер рабочей зоны, мм |
360 х 580 |
| УФ лампы |
14 шт. х 40 Ватт |
| Электропитание |
220 В, 50 Гц, 1,2 кВт |
| Габаритные размеры, мм |
660 х 600 х 200 |
| Вес, кг |
42 |
Имеется модификация Eco-Lux, предназначенная для одностороннего экспонирования.
==============================================================
Прецизионная вакуумная установка экспонирования RAPID 2000
Типовой ряд RAPID 2000 предназначен для двухстороннего экспонирования
печатных плат.
Короткое время засветки при высокой точности передачи рисунка достигается
использованием высокоэффективных 40 Ваттных УФ ламп и двух-слойной
копировальной рамы, в которой встроенным насосом непрерывно поддерживается
вакуум.
Верхняя и нижняя части рамы изготовлены из специально спрофилированной
антистатической пленки. Это гарантирует ошибки смещения при экспонировании,
отсутствие воздушных пузырей и равномерность засветки с обеих сторон. Конструкция
прочного сварного каркаса копировальной рамы позволяет легко заменять уплотнение и
пленку.
Специальный рефлектор гарантируют равномерность освещения всей рабочей
области. На панели управления расположены кнопка пуска, манометр и кнопка включения
охлаждения.
Цифровой таймер (1 Сек - 99 Мин) с автоматическим отключением управляет
временем засветки и подает звуковой сигнал окончания засветки.
Мощный вентилятор гарантирует хорошее охлажение установки и долговечность ее
работы.
Основные технические характеристики
|
B 200 |
B 400 |
B 600 |
| Размер рабочей зоны, мм |
580 x 240 |
580 x 360 |
580 x 600 |
| Время экспонирования |
1с - 99 мин |
1с - 99 мин |
1с - 99 мин |
| УФ лампы |
8 х 40 Вт |
14 х 40 Вт |
22 х 40 Вт |
| Габаритные размеры, мм |
980 х 460 х 300 |
980 х 500 х 300 |
980 х 700 х 300 |
| Вес установки, кг |
40 |
55 |
65 |
| Электропитание |
230В, 50Гц, 0,8КВт |
230В, 50Гц, 1,2КВт |
230В, 50Гц, 1,8КВт |
==============================================================
Установка экспонирования Cirgraphics 4000
Установка предназначена для двухстороннего экспонирования печатных
плат с использованием пленочного фотошаблона.
Для обеспечения плотного контакта между фотошаблоном и фоторезистом применяется
откачка воздуха внутри загрузочной рамы.
Система микропроцессорного управления с датчиком УФ-излучения
обеспечивает автоматизацию процесса экспонирования и упрощает работу с
установкой.
В установке могут использоваться специальные вакуумные
стеклянные рамы, позволяющие увеличить точность совмещения.
Основные технические характеристики
| Область экспонирования, мм |
610 х 610 |
| Мощность экспонирования, кВт |
4 |
| Количество ламп, шт. |
2 |
| Диапазон излучения, нм |
365 |
| Энергия экспонирования, мВт/см2 |
39 |
| Количество загрузочных рам, шт. |
1 |
| Система охлаждения ламп |
Воздушная |
| Количество отводимого воздуха, м3/час |
2 х 1000 |
| Электропитание |
380В, 50Гц, 25А |
| Габаритные размеры, мм |
890 х 1750 х 2140 |
| Вес, кг |
600 |
Выпускаются также установки с мощностью экспонирования 3 и 5 кВт.
==============================================================
Установка экспонирования ORC HMW-201B
Установка предназначена для двухстороннего контактного переноса рисунка
печатной платы с фотошаблона на заготовку, на которую предварительно нанесен
фоторезист. Благодаря своим характеристикам, установка также может быть использована для
экспонированния паяльной маски. Для обеспечения плотного контакта между фотошаблоном и
фоторезистом применяется откачка воздуха внутри загрузочной рамы.
Для увеличения производительности установка оснащена двумя загрузочными рамами.
Имеется система принудительного охлаждения экспонирующих ламп. Система микропроцессорного управления оптимизирует и упрощает работу с установкой.
В установке могут использоваться специальные вакуумные стеклянные рамы,
позволяющие увеличить точность совмещения.
Основные технические характеристики
| Размер зоны экспонирования, мм |
610 х 810 |
| Мощность экспонирования, кВатт |
5 |
| Количество ламп, шт. |
2 |
| Равномерность освещения, % |
10 |
| Количество загрузочных рам, шт. |
2 |
| Система охлаждения ламп |
Водяная, замкнутая |
| Электропитание |
380 В, 50 Гц, 50 А |
| Габаритные размеры, мм |
1370 х 2000 х 1740 |
| Вес, кг |
700 |
==============================================================
Установка экспонирования COLIGHT DMVL 1630 (США)
Установка экспонирования DMVL 1630 разработана фирмой Colight
Operations для двухстороннего экспонирования жидкой и сухой паяльной маски печатных плат,
а также для экспонирования всех типов сухих и мокрых фоторезистов и позволяет получить
разрешение токопроводящего рисунка печатной платы проводник-зазор 0,1/0,1мм.
Установка состоит из системы экспонирования, двух вакуумных
загрузочных рам, системы охлаждения ламп, устройства управления
процессом экспонирования и системы охлаждения рам экспонирования.
Для обеспечения плотного контакта между фотошаблоном и заготовкой
применяется откачка воздуха внутри загрузочной рамы (майлар-стекло).
В установке используются ртутные дуговые лампы регулируемой мощности
до 8 кВт. Установка DMVL 1630 не имеет встроенной системы совмещения
фотошаблонов с заготовкой.
По желанию заказчика установка может комплектоваться: компрессорно-
конденсаторным блоком или чиллером.
Основные технические характеристики
| Количество загрузочных рам, шт. |
2 |
| Размер зоны экспонирования, мм |
610 х 762 |
| Мощность экспонирования, кВатт |
3, 5, 8 |
| Рабочая длина волны, нм |
365 |
| Система охлаждения ламп |
Воздушная с рециркуляцией воздуха или водяным теплообменником |
| Электропитание |
380 В, 50 Гц, 50 А |
| Габаритные размеры, мм |
1360 х 2510 х 1830 |
| Вес, кг |
1134 |
Необходимое дополнительное оборудование: Компрессор (1,7 м3/час, 5,5 бар)
